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在材料科學和表面工程領域,實驗室電暈機正日益成為研究人員不可少的重要工具。作為一種精密的表面處理設備,它利用電暈放電技術對材料表面進行改性,在印刷、粘接、涂布等...
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等離子體干法刻蝕,簡而言之,是一種在真空條件下利用氣體放電產生的等離子體,對材料表面進行高精度、可控性去除的微納加工技術。通過掩膜和刻蝕參數的精細調控,它能夠在硅片等基材上實現各向異性或各向同性的圖形轉移,從而形成所需的微觀結構。這項技術不僅是集成電路制造中不可少的關鍵工藝,更是支撐現代材料科學、微機電系統及光電子學領域前沿研究的基石。一套完整的科研型等離子體干法刻蝕系統是一個高度集成的精密設備,其核心由五大子系統構成。首先是真空腔體與預真空室(LoadLock),前者是等離...
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等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。


等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除,以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。

改善粘合力-用于光學元件、生物醫學、封裝領域等;
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等,增強表面粘附性、浸潤性、相容性;
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。

等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式,其原理是暴露在電子區域的氣體形成等離子體,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

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